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ASML:对华出口禁令正激发中国研发动力加速突破光刻机技术壁垒
2025-07-24 · 来源/中讯社

ASML:对华出口禁令正激发中国研发动力加速突破光刻机技术壁垒

中讯社阿姆斯特丹|7月21日,据《法兰克福汇报》消息,全球光刻机巨头荷兰阿斯麦公司(ASML)正面临严峻挑战。其前任董事长韦宁克(Peter Wennink)近期警告,对华实施的关键技术出口禁令,反而可能激励中国加速自主研发高性能光刻机。

受美国对华高科技出口管制政策的影响,ASML股价已从去年夏季峰值大幅下跌约三分之一。此外,美国前总统特朗普今年4月关于可能对华征收关税的言论,为ASML增添了第二重政治风险。

《法兰克福汇报》指出,加征关税可能导致其高端光刻机售价从2.5亿美元飙升至3.25亿美元,该公司首席财务官警告这将对全球经济造成冲击。

报道指出,叠加关税风险与中国创新带来的结构压力正动摇ASML主导地位。

今年初有消息显示,中国公司推出的DeepSeek人工智能模型能够有效利用相对低端的芯片技术,这可能降低市场对尖端制程的迫切需求。

报道进一步提出,一个核心的潜在问题尚未被深入讨论:ASML的技术垄断究竟还能维持多久?中国在自主研发光刻设备方面的进展如何?

对此,ASML已做出审慎预期,为2026年可能出现"零增长"制定计划——这家行业龙头在过去十年中未曾经历过如此低迷的业绩展望。

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